PDF ダウンロード スケジュール 6 いいね! 0 12:00 〜 12:15 ▼ [12a-A23-12] 2-nm-EOT Y-Si-O Gate Stack Formation on Si0.5Ge0.5 〇CheTsung Chang1, Tomonori Nishimura1, Akira Toriumi1 (1.Univ. of Tokyo) キーワード:SiGe