Development of apparatus supplying hydrogen radical remotely to decompose SiCl<sub>4</sub> source

Fatima DAHMANI

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13 半導体 » 13.6 Semiconductor English Session

[12a-A23-1~12] 13.6 Semiconductor English Session

2015年3月12日(木) 09:00 〜 12:15 A23 (6A-216)

09:15 〜 09:30

▲ [12a-A23-2] Development of apparatus supplying hydrogen radical remotely to decompose SiCl₄ source

〇(D)Fatima DAHMANI¹, Yuji OKAMOTO^1,², Daiki TSUTSUMI^1,³, Takamasa ISHIGAKI³, Hideomi KOINUMA⁴, Sumiya MASATOMO¹ (1.NIMS inst., 2.TSUKUBA Univ., 3.Hosei Univ., 4.Tokyo Univ.)

キーワード：hydrogen radical,SiCl4

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▲ [12a-A23-2] Development of apparatus supplying hydrogen radical remotely to decompose SiCl4 source

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