2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[12a-P12-1~7] 13.3 絶縁膜技術

2015年3月12日(木) 09:30 〜 11:30 P12 (総合体育館)

09:30 〜 11:30

[12a-P12-7] Radical-Enhanced ALD法によるGe基板上Alジャーマネイトの形成機構に関する検討

横平 知也1、〇梁池 昂生1、柳 炳學2、山本 千綾2、山中 淳二2、佐藤 哲也2、岡本 浩3、福田 幸夫1 (1.諏訪東京理科大学, 2.山梨大学, 3.弘前大学)

キーワード:RE-ALD、Al ジャーマネイト