PDF ダウンロード スケジュール 1 いいね! 0 13:30 〜 15:30 [12p-P8-3] SiGe(111)上へのβ-FeSi2エピタキシャル成長とひずみの評価 〇塚本 裕明1、草原 彰吾1、山口 陽己1、尾方 済人1、服部 哲1、東 貴彦1、寺井 慶和1 (1.鹿児島大理工) キーワード:シリサイド半導体