[13a-A24-1~13] 13.3 絶縁膜技術

[13a-A24-3] 低温Kr/O₂プラズマ酸化法によるSiO₂/Si構造の作製および評価

〇藤川 雄太¹、岩崎 好孝¹、上野 智雄¹ (1.農工大工)

キーワード：プラズマ酸化、Kr