PDF ダウンロード スケジュール 9 いいね! 1 11:15 〜 11:30 [13a-A27-9] プラズマ支援反応性スパッタリング法を用いたアモルファスIGZO薄膜の低温形成とその特性評価 節原 裕一1、中田 慶太郎1、陶山 悠太郎1、〇竹中 弘祐1、内田 儀一郎1、江部 明憲2 (1.阪大接合研, 2.イー・エム・ディー) キーワード:酸化物半導体