2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.6 IV族系化合物

[13p-B4-1~9] 15.6 IV族系化合物

2015年3月13日(金) 16:15 〜 18:30 B4 (6B-104)

16:30 〜 16:45

[13p-B4-2] 低温酸素アニールによるSiO2/4H-SiC(0001)界面準位密度の増減機構の理解と制御

〇菊地 平八郎1、喜多 浩之2 (1.東大院工, 2.JST さきがけ)

キーワード:SiC、SiO2、MOS