2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶

[14a-D4-1~10] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶

2015年3月14日(土) 09:00 〜 11:30 D4 (16-204)

11:00 〜 11:15

[14a-D4-9] MBE法におけるin-situ 熱拡散法によるGaAsPナノワイヤの自己形成と量子ドットによる斥力効果

〇VO QUOC HUY1、渡邉 克之1、影山 健生2、岩本 敏1, 2、荒川 泰彦1, 2 (1.東大生研, 2.東大ナノ量子機構)

キーワード:ナノワイヤ、GaAsP、量子ドット