10:00 〜 10:15 [14a-A37-5] MOCVD法によるCeO2/SiO2複合酸化膜の生成及び評価 〇菊地 健介1、古矢 智也1、鈴木 摂2、石橋 啓次2、山本 康博1 (1.法政大理工、2.株式会社コメット)