16:00 〜 18:00 [15p-P16-8] 低温プロセスによる常誘電体/常誘電体複合セラミックスへの歪導入とその誘電特性 〇垣内 博行1、上野 慎太郎1、中島 光一2、和田 智志1 (1.山梨大院、2.茨城大院)