09:30 〜 09:45 [13a-D61-3] アセタール基で保護したノーリア誘導体に基づいたレジスト材料の電子線照射に対する応答性の系統的な研究 〇山本 洋揮1、工藤 宏人2、古澤 孝弘1 (1.阪大産研、2.関西大学)