2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料

[13a-B3-1~12] 3.5 レーザー装置・材料

2016年9月13日(火) 09:00 〜 12:15 B3 (展示控室3)

時田 茂樹(阪大)

09:45 〜 10:00

[13a-B3-4] 100mJ級伝導冷却型QスイッチTm,Ho:YLFレーザーの高平均出力動作

佐藤 篤1,2、青木 誠2、石井 昌憲2、大塚 涼平3,2、水谷 耕平2、落合 啓2 (1.東北工大、2.情通機構、3.首都大)

キーワード:レーザー、半導体レーザー励起、Qスイッチ

本研究では、100mJ級の伝導冷却型QスイッチTm,Ho:YLFレーザーにおいて、7Wを超える高平均パワー動作を達成した。レーザーロッドの冷却温度-80℃、繰り返し周波数70Hzのとき、Qスイッチパルス出力104mJが得られた。これは平均パワー7.28Wに相当する。また、50Hzのとき、最大パルスエネルギーは125mJに達した。