2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

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[13a-B9-1~11] 8.4 プラズマエッチング

2016年9月13日(火) 09:00 〜 11:45 B9 (展示ホール内)

木下 啓蔵(PETRA)

09:30 〜 09:45

[13a-B9-3] 吸引プラズマの精密エッチングレート制御

狩野 諒1,3、菅 洋志1、新堀 俊一郎2、高橋 賢2、宮脇 淳3、久保 利隆3、安藤 淳3、清水 哲夫3 (1.千葉工大、2.三友製作所、3.産総研)

キーワード:吸引プラズマ、プラズマエッチング、SiO2

MEMSセンサに活用されているSiO2やSi3N4などの薄膜からなるダイアフラム構造製作の、簡便なプロセス技術の確立を目的に、局所加工が可能で低残渣の特徴を持つ吸引プラズマを用いて、加工ガスにアルゴンガスで希釈してSiO2(200nm)/Si基板のエッチングレートの精密制御を試みた。結果、CF4濃度で吸引プラズマエッチングの加工レートを制御し、SiO2膜を残す精密加工が可能であることを確認した。