[13a-D61-1~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

△ [13a-D61-7] 磁場アセンブリ法による2次元ナノギャップ配列構造の自発的形成

〇瀧谷 昇哉¹、青木 画奈¹、藤井 稔¹ (1.神戸大学院工)

キーワード：微細加工技術、磁場アセンブリ、ギャップ構造

本研究では、汎用的な微細加工技術であるフォトリソグラフィと自己組織化法の一つである磁場アセンブリ法を組み合わせた新しいナノ微細加工技術を提案する。この方法の利点は、フォトリソグラフィ法で形成したマイクロスケールパターンを、一括してより複雑なナノパターンに修飾できる点である。