[13p-P5-1~64] 17 ナノカーボン（ポスター）

[13p-P5-52] ガス状プリカーサーを用いたMoS₂単層膜のスケーラブルなCVD成長

〇佐久間 芳樹¹、間野 高明¹、大竹 晃浩¹ (1.物材機構)

キーワード：遷移金属ダイカルコゲナイド、二硫化モリブデン、化学的気相成長法

MoS₂のスケーラブルなCVD成長技術を開発することを目的に、ガス状のプリカーサーとしてMoO₂Cl₂ とH₂Sを使って成長を試みた。基板には熱酸化膜付きの2インチSiウエハを用いた。圧力50Torr、温度600～800°Cの条件でMoS₂の成膜をラマン分光で確認した。2インチ全面成長も実現できている。700°Cのサンプルを調べたところ2つのラマンピークの波数間隔、偏光ラマン測定よりMoS₂が層状に配向した単層膜であることがわかった。また、明瞭なPLピークも観察できた。