[14a-C31-1~10] 3.7 レーザープロセシング

[14a-C31-9] 真空紫外レーザーによるＡｌ薄膜への微細周期構造の形成

〇松永 亮太¹ (1.防衛大電工)

キーワード：ArFエキシマレーザー、Al薄膜、微細周期構造

厚さ2 mmのシリコーンゴム表面に，予めAl薄膜を約20 nmの膜厚で真空蒸着した．次に，そのAl薄膜上に直径2.5 µmのシリカガラス製微小球を単層で整列させた．その試料上方から，ArFエキシマレーザー（193nm）を，フルエンス10 mJ/cm²，パルス繰り返し周波数1 Hz，照射時間15～60 minの範囲で照射した．その結果，試料表面に直径約1 mm，高さ約3～5 mmのピラー状構造の形成が認められた．