2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.5 イオンビーム一般

[14p-B6-1~12] 7.5 イオンビーム一般

2016年9月14日(水) 13:45 〜 17:15 B6 (展示控室2)

後藤 康仁(京大)、二宮 啓(山梨大)

16:45 〜 17:00

[14p-B6-11] ガスクラスターイオンビームを用いた表面活性化接合への応用

〇(M2)佐々木 智也1、豊田 紀章1、山田 公1 (1.兵県大院工)

キーワード:ガスクラスターイオンビーム、表面活性化接合

表面活性化接合のビームとして、超低エネルギーイオンが実現できるガスクラスターイオンビーム(GCIB)の応用を試みた。照射表面のXPS分析からGCIBを斜入射で照射することで、Cu表面の酸化膜を除去することができ、Cu同士の接合が可能であることを示した。今後、引張試験や接合メカニズムの検証、AFMによる表面形状評価を行う予定である。