2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » IV族半導体薄膜の結晶化と欠陥制御

[14p-B7-1~17] IV族半導体薄膜の結晶化と欠陥制御

2016年9月14日(水) 12:30 〜 19:15 B7 (展示ホール内)

松尾 直人(兵庫県立大)、東 清一郎(広島大)、宇佐美 徳隆(名大)、米永 一郎(東北大)

14:45 〜 15:15

[14p-B7-7] アルミニウム誘起層交換成長法によるシリコン薄膜成長のカイネティクスと応用

宇佐美 徳隆1 (1.名大院工)

キーワード:Al誘起層交換成長法

本講演では、低コスト大面積基板上へのwafer-equivalentなSi薄膜の成長法として期待が大きいAl誘起層交換成長法について、成長過程の「その場観察」を利用した成長カイネティクスに関する基礎検討や、得られたSi薄膜をテンプレートとしたBaSi2薄膜の成長、固溶限界までAlがドーピングされる特性を利用した高濃度ドープ層としての応用などについて述べる。