[15a-B7-1~14] 8.1 プラズマ生成・制御

[15a-B7-9] 永久磁石を用いたミラー磁場閉じ込めECRプラズマ源

〇後藤 哲也¹、佐藤 圭一郎²、薮田 勇気³、須川 成利¹ (1.東北大未来研、2.コーテック、3.誠南工業)

キーワード：ミラー磁場閉じ込め、電子サイクロトロン共鳴、ミニマルファブ

小型の半導体製造用のプロセスプラズマ源として、永久磁石を用いたミラー磁場閉じ込めプラズマ源の開発を行っている。本プラズマ源は本、産総研が中心となり開発している新しい変種変量半導体生産システム「ミニマルファブ」に適用するものである。プラズマ励起は、5.8GHzのマイクロ波を用い電子サイクロトロン共鳴（ECR）を利用する。本発表にて、ラングミュアプローブにより得られたプラズマパラメータの空間的分布等、本プラズマ源の基礎的な特性を報告する。