2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[15p-B9-1~17] 13.3 絶縁膜技術

2016年9月15日(木) 13:15 〜 17:45 B9 (展示ホール内)

手塚 勉(東芝)、知京 豊裕(物材機構)

16:15 〜 16:30

[15p-B9-12] X線光電子分光法による熱酸化SiO2およびGeO2薄膜の誘電関数評価

山本 泰史1、大田 晃生1、池田 弥央1、牧原 克典1、宮崎 誠一1 (1.名大院工)

キーワード:絶縁膜