2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[16a-B1-1~13] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2016年9月16日(金) 09:00 〜 12:30 B1 (展示ホール内)

佐藤 威友(北大)

09:15 〜 09:30

[16a-B1-2] ドレイン電極形状がAlGaN/GaN HEMTsの耐圧に与える影響

山崎 泰誠1、鈴木 雄大1、Asubar Joel1、徳田 博邦1、葛原 正明1 (1.福井大院工)

キーワード:AlGaN/GaN HEMT、耐圧、電極形状

AlGaN/GaN HEMT は高耐圧かつ低損失のパワースイッチング用デバイスとして期待されている。大電流特性を獲得するためにマルチフィンガー電極パターンが広く使われている。しかし、総ゲート幅が大きくなるにつれて、耐圧が減少することが確認された。本研究ではこの耐圧減少を抑えるため、新しい電極形状のAlGaN/GaN HEMT を作製し、耐圧特性評価を行った。