2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[16a-B1-1~13] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2016年9月16日(金) 09:00 〜 12:30 B1 (展示ホール内)

佐藤 威友(北大)

10:45 〜 11:00

[16a-B1-7] MOVPE成長Siドープn型GaNの電気特性における貫通転位の影響

澤田 直暉1、成田 哲生2、上杉 勉2、加地 徹3、堀田 昌宏1、須田 淳1 (1.京大院工、2.豊田中研、3.名大)

キーワード:窒化ガリウム、貫通転位、電気特性

本研究では、貫通転位が電気特性に与える影響を明確にするため、サファイア基板AlNテンプレート上およびGaN基板上にSiドープn型GaN層を同時にMOVPE成長し、それら試料のHall効果測定を行い、測定結果を比較し考察した。AlN/sapp.テンプレート上試料の移動度は、全温度領域でGaN基板上試料より低下した。これは転位散乱の影響だと考えられ、また、その影響は低ドープになるほど顕著になる。