PDF ダウンロード スケジュール 21 いいね! 0 コメント (0) 10:30 〜 10:45 △ [16a-D61-7] MOCVD法によるGe基板上でのGe1-xSnxエピタキシャル成長(4)Sb原子の持つサーファクタント効果によるSn濃度増加 〇須田 耕平1、澤本 直美1、町田 英明2、石川 真人2、須藤 弘2、大下 祥雄3、臼田 宏治4、広沢 一郎5、小椋 厚志1 (1.明治大、2.気相成長(株)、3.豊田工大、4.(株)東芝、5.高輝度光科学研究セ) キーワード:GeSn、MOCVD 本発表では、Sb原子のサーファクタント効果によるGe1-xSnx膜のSn濃度増加について報告する。