[16p-A22-1~6] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[16p-A22-2] ミストCVD法による硫化亜鉛薄膜の形成と評価

〇沖田 晃史¹、皆見 憲亮¹、寺屋 さとみ¹、永岡 昭二^3,4、谷田部 然治²、中村 有水^1,4 (1.熊大院自然科学、2.熊大先導機構、3.熊本産技、4.熊本有機薄膜)

キーワード：硫化亜鉛、ミストCVD