[16p-B7-1~13] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[16p-B7-2] 電磁場シミュレーションによるＤＣマグネトロンスパッタの膜厚分布予測

〇川嶋 邦裕¹ (1.TPEC)

キーワード：ＤＣマグネトロンスパッタ、半導体、シミュレーション

DCマグネトロンスパッタで成膜される膜厚の分布をシミュレーションにより予測する。
磁石の配置から計算される磁場の分布をもとに、電磁場中の電子の挙動を考慮したエロージョンおよびウェハに成膜される膜厚分布を予測する手法と実測値との比較を報告する。