16:00 〜 18:00 △ [19p-P12-19] High-Kゲート絶縁膜によるTFTの高性能化と低消費ReRAMの搭載 〇(D)鍋坂 恭平1、山内 祥光1、門 圭佑1、藤井 茉美1、石河 泰明1、浦岡 行治1 (1.奈良先端大物質創成科)