12:00 〜 12:15
〇國分 義弘1、久保 匠平1、中込 真二1 (1.石巻専修大理工)
國分 義弘
発表者・著者、共著者
2016年3月21日(月) 09:00 〜 12:15 S222 (南2号館)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 合同セッションＫ
- | 合同セッションＫ ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス
2016年3月21日(月) 09:00 〜 12:15 S222 (南2号館)
12:00 〜 12:15
〇國分 義弘1、久保 匠平1、中込 真二1 (1.石巻専修大理工)