一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.15 シリコンフォトニクス
2016年3月20日(日) 10:00 〜 12:15 S621 (南6号館)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
10:00 〜 10:15
〇矢後 佳貴1、安藤 健朗1、森田 澪1、清水 大雅1 (1.農工大工)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
〇細田 昌志1、佐藤 譲1、ダニシュ アブドゥルワヒド1、清水 大雅1 (1.農工大工)
スケジュール
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10:30 〜 10:45
〇雨宮 嘉照1、サナ アムリタ クマル1、谷口 智哉1、横山 脩平1、野田 和希1、千日 拓馬1、横山 新1 (1.広島大)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇山本 悠介1、貝原 輝則1、清水 大雅1 (1.農工大工)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇三浦 謙悟1、庄司 雄哉1、水本 哲弥1 (1.東工大)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
〇(M1)伊東 憲人1、久能 雄輝1、林 侑介1、鈴木 純一1、雨宮 智宏1、西山 伸彦1、荒井 滋久1 (1.東工大)
スケジュール
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11:45 〜 12:00
〇蘇武 洋平1、鄭 錫煥1、田中 有1、森戸 健1 (1.光電子融合基盤技術研究所)
スケジュール
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12:00 〜 12:15
〇羽鳥 伸明1、栗原 充1、西沢 元亨1、田中 有1、森戸 健1、蔵田 和彦1 (1.PETRA)
スケジュール
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