[19a-H111-1~13] 6.3 酸化物エレクトロニクス

△ [19a-H111-5] 反応性RFスパッタ法で作製したCuCrO₂薄膜の光透過性と構造物性

〇千葉 博¹、川島 知之¹、鷲尾 勝由¹ (1.東北大院工)

キーワード：デラフォサイト型酸化物、反応性RFスパッタリング法、p形ワイドギャップ半導体

デラフォサイト型酸化物ABO₂はp形透明酸化物半導体として有望視されており、特にCuCrO₂は低抵抗材料として期待されている。しかし、可視光透過率や配向性の向上と副生成物(CuO, Cr₂O₃など)の低減も求められている。本研究では、RFスパッタ法において反応性のアルゴン窒素混合ガス（Ar/N₂）の割合を変化し、可視光透過性と薄膜構造について検討した。