2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

[19a-S622-1~13] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

2016年3月19日(土) 09:00 〜 12:30 S622 (南6号館)

岩長 祐伸(物材機構)

11:45 〜 12:00

[19a-S622-11] ドレスト光子フォノンを用いたGaP LEDの加工条件依存性と2準位2状態モデルによる解析

〇(D)金 俊亨1、川添 忠2、大津 元一1 (1.東大院工、2.NPOナノフォト)

キーワード:ドレスト光子、ガリウムリン、2準位系

励起準位にある系の場合、原子拡散のためのポテンシャル障壁が低くなっていることに着目することでドレスト光子フォノン(DPP)援用アニールを正しく説明するモデル(2準位2状態モデル)を作ることができる。本発表では2準位2状態モデルを用いてDPP援用アニールのメカニズムを定性的かつ定量的に論ずる。