2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

9 応用物性 » 9.2 ナノワイヤ・ナノ粒子

[19a-W834-1~11] 9.2 ナノワイヤ・ナノ粒子

2016年3月19日(土) 09:00 〜 12:00 W834 (西8号館)

深田 直樹(物材機構)

09:00 〜 09:15

[19a-W834-1] AllylamineによるP,B同時ドープSiナノ結晶の表面修飾

多田 康洋1、管野 天1、加納 伸也1、杉本 泰1、今北 健二1、藤井 稔1 (1.神戸大院工)

キーワード:表面修飾、シリコン、ナノ結晶

当研究室ではSiにP,B同時ドーピングすることにより、有機分子による表面修飾無しに極性溶媒中で高い分散性を有するSiナノ結晶の開発に成功した。本研究では末端がアミノ基であるallylamineにより表面修飾したSiナノ結晶の開発を行い、Siナノ結晶に対するアミノ基由来の選択吸着性の付与、およびSiナノ結晶薄膜の電気伝導特性の改善を目的としている。