[19p-H111-1~22] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[19p-H111-15] Ta₂O₅固体電解質薄膜へのプロトン注入と膜質評価

〇今井 阿由子¹、古谷 早苗¹、住吉 研¹ (1.NLTテクノロジー)

キーワード：固体電解質、酸化タンタル、スパッタ法

ITOガラス上に、WO₃膜及び固体電解質であるTa₂O₅膜の積層膜を、スパッタにより作製した。その後、希硫酸中でサイクリックボルタンメトリ測定を行い、スパッタ圧力・膜焼成条件によるプロトン注入特性の変化を評価した。また、Ta₂O₅薄膜のAFM観察、エリプソメーター測定により、粒径・空孔率を評価した。評価の結果より、膜が低密度であるとプロトン注入特性が良好であることがわかった。