2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[19p-S423-1~17] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2016年3月19日(土) 13:45 〜 18:15 S423 (南4号館)

中村 友二(富士通研)、角嶋 邦之(東工大)

13:45 〜 14:00

[19p-S423-1] ナノインプリント技術を用いた金属-誘電体-金属サブ波長格子の製作

満留 将人1、本間 浩章1,2、伊藤 伸太郎3、石田 誠1、澤田 和明1、高橋 一浩1 (1.豊橋技科大、2.特別研究員DC2、3.名古屋大学)

キーワード:ナノインプリント、リフトオフ