[19p-S423-1~17] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[19p-S423-5] 弾道電子の還元効果を利用したCu薄膜のプリンティング堆積

〇須田 隆太郎¹、八木 麻実子¹、小島 明¹、白樫 淳一¹、越田 信義¹ (1.農工大・院･工)

キーワード：ナノシリコン、弾道電子、プリンティング堆積

ナノシリコン弾道電子源から放出された電子は高い還元力を有しており、電子が物質塩溶液に注入されると陽イオンが還元され当該物質の薄膜が形成される。この効果を発展させ、溶液を塗布した対向基板に弾道電子を近接照射するプリンティング方式を開発した。ここでは、Cu薄膜堆積を対象に絶縁性基板を含む種々の基板への適用性を確認した。