[20a-P4-1~71] 17 ナノカーボン（ポスター）

[20a-P4-29] 2層レジストを用いたグラフェンナノディスクの作製と光学特性評価

〇石田 周太郎¹、新宅 貴志¹、笹木 敬司¹ (1.北大電子研)

キーワード：グラフェン、ナノ構造、光学特性

ポジティブレジスト（ZEP520）と金属ナノディスクをマスクとして作製してきたグラフェンナノディスクのレジスト残渣と更なる微細化を実現するため、新たにHSQ/PMMA 2層レジストを用いたグラフェンナノディスク作製プロセスを開発し、デバイス形状の評価と光学特性評価を行ったので、報告する。