2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.15 シリコンフォトニクス

[20a-S621-1~8] 3.15 シリコンフォトニクス

2016年3月20日(日) 10:00 〜 12:15 S621 (南6号館)

岡野 誠(産総研)、庄司 雄哉(東工大)

10:15 〜 10:30

[20a-S621-2] 有機金属堆積法によるガラスおよびシリコン基板上へのBi2Y1Fe5O12薄膜の作製と評価

細田 昌志1、佐藤 譲1、ダニシュ アブドゥルワヒド1、清水 大雅1 (1.農工大工)

キーワード:磁気光学材料、磁性体ガーネット、光アイソレータ