[20p-H111-1~9] 機能性酸化物探索の新展開　～more oxide, beyond oxide～

[20p-H111-2] ガスソースMBE高品質酸化物薄膜で拓く酸化物エレクトロニクス

〇高橋 圭^1,2、松原 雄也^1,3、村田 智城³、Bahramy Mohammad^1,3、小塚 裕介³、Maryenko Denis¹、Falson Joseph³、塚崎 敦⁴、十倉 好紀^1,3、川﨑 雅司^1,3 (1.理研 CEMS、2.JST さきがけ、3.東大工、4.東北大金研)

キーワード：分子線エピタキシー、酸化物薄膜、量子ホール効果

本研究では、酸化物薄膜の結晶性を飛躍的に向上させる成長方法として、半導体レーザー基板加熱による高温成長を組みあわせたガスソースMBEを開発した。これまでに得られたデルタドープSrTiO₃の量子ホール効果の観察に代表される様々な実験結果は、他の成長法で合成した結晶性の低い薄膜では得られなかったものであり、ガスソースMBEが酸化物薄膜のポテンシャルを引き出す強力なツールであることを示している。