2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[20p-P13-1~14] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2016年3月20日(日) 16:00 〜 18:00 P13 (屋内運動場)

16:00 〜 18:00

[20p-P13-9] スパッタリング法で作製したβ-FeSi2多結晶薄膜内の不純物濃度分析

服部 哲1、東 貴彦1、池田 修哉2、扇 和也2、寺井 慶和1,2 (1.鹿児島大理工、2.九工大情報工)

キーワード:シリサイド