2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶

[20p-P16-1~12] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶

2016年3月20日(日) 16:00 〜 18:00 P16 (屋内運動場)

16:00 〜 18:00

[20p-P16-8] 面内超高密度InAs量子ドット層における熱処理効果

〇(B)南 裕太1、秋元 直己1、鮫島 一樹1、山口 浩一1 (1.電気通信大学)

キーワード：量子ドット、InAs