2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[20p-S221-1~17] 13.3 絶縁膜技術

2016年3月20日(日) 13:45 〜 18:15 S221 (南2号館)

渡邉 孝信(早大)、舟窪 浩(東工大)

17:45 〜 18:00

[20p-S221-16] 多相HfO2膜における均一強誘電相の発現

柴山 茂久1,2、徐 倫1、右田 真司3、鳥海 明1 (1.東大院工、2.学振特別研究員、3.産総研)

キーワード:HfO2、強誘電体、ピエゾ応答力顕微鏡