2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.1 作製・構造制御

[20p-W242-1~16] 12.1 作製・構造制御

2016年3月20日(日) 13:45 〜 18:00 W242 (西2・3号館)

龍崎 奏(九大)、小野寺 恒信(東北大)

14:30 〜 14:45

[20p-W242-4] 混合アルカンチオールSAM修飾による高被覆率金ナノ粒子2次元配列膜

坂本 謙二1、Thuy Ung Thi Dieu2、西山 聡子1、柳田 さやか1、Liem Nguyen Quang2、三木 一司1,3 (1.物材機構、2.IMS-VAST、3.筑波大数物)

キーワード:金ナノ粒子、混合アルカンチオール自己組織化膜、2次元配列

10 nm以下の金ナノ粒子の表面を単一のアルカンチオールで被覆することにより、高被覆率2次元配列膜が容易に形成できる。粒子径が大きくなると、溶媒中での凝縮沈殿が早く、高被覆率コロイド膜を得ることは困難である。混合アルカンチオールSAMで金ナノ粒子表面を被覆することによりこの問題は解決できる。本講演では、混合アルカンチオールSAM膜の組成比と金コロイド膜の被覆率の関係について述べる。