2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.1 作製・構造制御

[20p-W242-1~16] 12.1 作製・構造制御

2016年3月20日(日) 13:45 〜 18:00 W242 (西2・3号館)

龍崎 奏(九大)、小野寺 恒信(東北大)

16:00 〜 16:15

[20p-W242-9] ナノミスト堆積法による低分子有機薄膜の成膜条件依存性

寺田 諒1、新沼 佳樹1、高塚 祐輔1、上田 裕之1、菊池 昭彦1,2 (1.上智大理工、2.上智ナノテクセンター)

キーワード:有機EL、ウェットプロセス、NMD