2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.5 接合,回路作製プロセスおよびデジタル応用

[20p-W834-1~12] 11.5 接合,回路作製プロセスおよびデジタル応用

2016年3月20日(日) 13:45 〜 17:00 W834 (西8号館)

明連 広昭(埼玉大)

14:45 〜 15:00

[20p-W834-5] Nb/Al/AlOx/Al/Nb接合におけるサブギャップ電流の考察

〇(M2)池谷 瑞基1、酒井 剛1、小嶋 崇文2、野口 卓2 (1.電通大、2.国立天文台)

キーワード:SIS接合、リーク電流

電波天文学用受信機の広帯域化には、高臨界電流密度を有するSISミキサが必須であり、接合の絶縁層の厚みを極めて薄くする必要がある。しかし、従来のNb/Al/AlOx/Nb接合の場合、絶縁層を薄くするとサブギャップ電圧領域のリーク電流が増加する傾向がある。本研究では、絶縁層の上にAl層を追加することで、リーク電流の低減を図った。今回はこれらの接合について、IV特性の数値計算とTEMによる断面観察、EDX分析を通して得られた考察を報告する。