2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[21p-H111-1~22] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2016年3月21日(月) 13:00 〜 18:45 H111 (本館)

島 久(産総研)、内藤 泰久(産総研)

14:45 〜 15:00

[21p-H111-8] Layer-by-Layer焼成雰囲気におけるBaTiO3薄膜の抵抗変化型メモリ特性向上の研究

杉江 敏幸1、橋本 修平1、前島 壮1、張 子洋1、野田 実1、山下 馨1 (1.京工繊工芸)

キーワード:チタン酸バリウム、抵抗変化型メモリ、層ごとの

次世代不揮発性RAMの一種である抵抗変化型メモリ(ReRAM)の材料候補の一つに挙げられるBaTiO3薄膜をMOD法を用いて成膜し、その作製過程においてLayer-by-Layer表面焼成の最適化による抵抗変化型メモリの耐久性などの問題点について改善を図る研究を行った。