2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶

[21p-H112-1~13] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶

2016年3月21日(月) 13:15 〜 16:45 H112 (本館)

宮本 智之(東工大)

13:45 〜 14:00

[21p-H112-3] 太陽電池応用InGaAs/GaAsP多重量子井戸への緩和層導入効果

渡辺 健太郎1、井上 智之2、トープラサートポン カシディット2、アモリ デラマール2、ソダーバンル ハッサネット1、杉山 正和2、中野 義昭1,2 (1.東大先端研、2.東大工)

キーワード:多重量子井戸、MOVPE、光学評価

太陽電池応用を目指したInGaAs/GaAsP多重量子井戸構造の結晶成長において、InGaAs井戸層とGaAsP障壁層の間にごく薄いGaAs緩衝層を導入することでより大きな積層数まで表面の平坦性を維持しつつ成長することができる。この緩衝層の影響について調査するため、GaAs pin構造のi層中にこの多重量子井戸を導入し、太陽電池としての性能評価を行った。その結果、緩衝層がある場合では開放電圧の増大がみられ、エレクトロルミネッセンス評価に基づく内部発光効率も向上することが確認された。