2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[21p-S223-1~17] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2016年3月21日(月) 13:30 〜 18:00 S223 (南2号館)

山口 憲司(原子力機構)、原 康祐(山梨大)

16:15 〜 16:30

[21p-S223-11] β-FeSi2エピタキシャル膜におけるラマンシフトの成長方位依存性

山崎 一輝1、山口 陽己2、寺井 慶和1,2 (1.九工大情報工、2.鹿児島大理工)

キーワード:シリサイド