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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.9 光物性・発光デバイス

[21p-S423-1~19] 13.9 光物性・発光デバイス

2016年3月21日(月) 13:45 〜 18:45 S423 (南4号館)

深田晴己(金沢工大)、七井靖(日大)

17:45 〜 18:00

[21p-S423-16] RFスパッタリング法によるGd³⁺添加YAlO₃薄膜紫外ELデバイスの作製

〇(PC)清水雄平¹、植田和茂¹ (1.九工大)

キーワード：エレクトロルミネッセンス、紫外、薄膜

　　　