[21p-S423-1~19] 13.9 光物性・発光デバイス

[21p-S423-17] 中性粒子ビームとバイオナノテンプレートを用いて作製したGaAs量子ナノディスクのキャリア再結合とその埋め込み効果

〇(M2)近藤 清文¹、大堀 大介¹、境 健太郎²、トーマス セドリック³、肥後 昭男⁴、寒川 誠二³、前田 幸治¹、碇 哲雄¹、福山 敦彦¹ (1.宮崎大工、2.宮崎大産地連セ、3.東北大流体研、4.東北大 WPI-AIMR)

キーワード：量子ドット、ナノディスク、中性粒子ビーム

超低損傷の中性粒子ビームとバイオナノテンプレートを用いたトップダウンドライプロセスによって、作製したGaAs量子ナノディスクのキャリア再結合過程及び埋め込み再成長の影響