2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.3 層状物質

[22a-S421-1~11] 17.3 層状物質

2016年3月22日(火) 09:00 〜 12:00 S421 (南4号館)

宮田 耕充(首都大)

09:00 〜 09:15

[22a-S421-1] 【講演奨励賞受賞記念講演】 WSe2表面酸化層のp型コンタクト・ドーパント応用

山本 真人1、中払 周1、上野 啓司2、塚越 一仁1 (1.物材機構、2.埼玉大院理工)

キーワード:遷移金属ダイカルコゲナイド、遷移金属酸化物、電界効果トランジスタ

MOxやWOxなどの遷移金属酸化物は、非常に大きな仕事関数および電子親和力を持つことから、二次元半導体デバイスにおける効果的なホール注入層およびドーパントとして注目を集めている。本講演では、数原子層のWSe2表面をオゾン酸化して得られるわずか数nmのWOxが、低障壁p型コンタクトおよび環境制御可能なp型ドーパントとして利用できることを報告する。