[22a-W611-1~14] 8.3 Deposition of thin film and surface treatment

[22a-W611-1] ITO thinfilms fabricated by hybrid facing-target sputtering

〇Shinichi Morohashi¹, Tsujita Keisuke¹, Tanimoto Tsukasa¹, Harada Naoyuki¹, Murata Takuya¹ (1.Yamaguchi Univ.)

Keywords:hybrid facing-target sputtering,ITO thin films

低ダメージ・高速堆積を特徴とするハイブリッド対向スパッタによるITO薄膜のAs-depo成膜について調べてきた。今回、可動棒磁石移動距離とその時の放電電圧、及び堆積速度の関係について実験を行い，ITO(In₂O₃:SnO₂= 90:10 wt.%, 純度3N)ターゲット使用において、無アルカリガラス基板上As-depo成膜で電気抵抗率4.2x10^-4Ωcm (膜厚100 nm)が得られたので報告する。